CPC-50

研磨后清洗液

CPC-50是以有机胺为基础的研磨后清洗液，应用半导体制程，能去除残留於晶圆上铜抑制剂错合物、金属离子、有机物，以及优异铜耐蚀腐性能力，且能维持铜表面的平坦度。