蚀刻液、剥膜液、前后处理液、晶圆清洗液、雷射保护剂

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NiCr-50S3
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NiCr-50S

镍铬矽蚀刻液

NiCr-50S使用混合酸系统,较稳定的蚀刻速率,可达到有效控制蚀刻量,提升蚀刻精度的效果。本产品内特别含有保护剂,可有效在导电层(铜、银...等)金属上形成一个水性覆盖膜,降低铜、银在蚀刻过程中所受到的腐蚀。保护剂极为亲水性,蚀刻完成后以清水冲洗即可轻易去除,不影响后续制程。
1. 不伤铜、银等其他金属。
2. 催化剂不易裂解,可维持稳定的蚀刻速率,且对於温度有良好的稳定性。
3. 铜层线路的侧蚀量低。
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