蝕刻液、去膜液、前後處理液、晶圓清洗液、雷射保護劑

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商品介紹
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NiCr-50S

鎳鉻矽蝕刻液

NiCr-50S使用混合酸系統,較穩定的蝕刻速率,可達到有效控制蝕刻量,提升蝕刻精度的效果。本產品內特別含有保護劑,可有效在導電層(銅、銀...等)金屬上形成一個水性覆蓋膜,降低銅、銀在蝕刻過程中所受到的腐蝕。保護劑極為親水性,蝕刻完成後以清水沖洗即可輕易去除,不影響後續製程。
1. 不傷銅、銀等其他金屬。
2. 催化劑不易裂解,可維持穩定的蝕刻速率,且對於溫度有良好的穩定性。
3. 銅層線路的側蝕量低。
鎳、鎳鉻蝕刻液 1399010