蝕刻液、剝膜液、前後處理液、晶圓清洗液、雷射保護劑

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TIF-50N

高速鈦蝕刻液

TIF-50N鈦蝕刻液,適用於微米厚度以上的鈦蝕刻製程,蝕刻速度快且均勻。藥水穩定且不含氫氟酸,對人員環境污染小。對溶解金屬承載量大。 鈦蝕刻液 1399012