適用於各種基板上濺鍍鈦層之蝕刻，蝕刻速度快。藥水不含氫氟酸，而是以較為穩定的氟塩取代，對人員環境污染小。有著顯著的選擇性蝕刻，對銅、鎳、錫銀、金等其他基板上的金屬攻擊性極低。對溶解金屬承載量大，可配合酸當量管控，並添加TIF-50R。