蝕刻液、剝膜液、前後處理液、晶圓清洗液、雷射保護劑
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高速銅蝕刻液
高速鈦蝕刻液
銅微蝕液
鎳鉻矽蝕刻液
鎳蝕刻液
選擇性銅蝕刻液
高速鋁蝕刻液
選擇性鋁蝕刻液
雷射保護劑
研磨後清洗液
高光鋁合金脫脂劑
化學鋅置換
助焊劑清洗液
過氧化氫酶
消泡劑
錫變色防止劑
剝膜液
剝膜液
選擇性銅蝕刻液
選擇性鈦蝕刻液 (雙氧水)
選擇性鈦蝕刻液 (氟塩)
鎳鉻蝕刻液
洗淨劑
酸性清潔液
酸性洗槽液
顯影去膜中和液
艾群化學有限公司於2019年成立,主要於半導體相關電子產業的濕製程領域,提供專業化學品的開發、製造、技術整合與銷售服務,產品包含蝕刻液、剝膜液、前後處理液、晶圓清洗液、雷射保護劑等。
艾群化學團隊積極的在次世代的半導體製程技術上,配合客戶作客製化的產品開發,期許與客戶共同創造新價值以及提升國際競爭力。
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